低分子化合物の精製に適したDAISOGELグレードは？
低分子化合物の分離をはじめ、クロマトグラフィー分離において重要なのは、目的分子がシリカゲルの細孔内部まで十分に拡散し、細孔内表面を含む比表面積を有効に利用できることです。そのためには、細孔径が目的分子の拡散に十分な大きさである一方、十分な表面積を確保できるサイズであることが求められます。DAISOGELでは、細孔径と比表面積は相関しており、精製対象に応じた適切な細孔径の選定が重要です。
低分子化合物の精製では、細孔径と比表面積のバランスに優れた SP-100-10-ODS-P が有力な選択肢です。
細孔特性の比較
DAISOGELグレード
細孔径（Å）
細孔容積（mL/g）
比表面積（m²/g）
SP-50
50
0.8
600
SP-100
100
1.1
450
SP-120
120
1.0
300
ODS負荷量の比較
シリカゲルグレード
最大負荷量（mg）
SP-100-ODS-P
19.7
Kromasil-100-C18
10.6
Inertsil-ODS-3V
8.2
Symmetry-C18
5.8
KROMASIL®は、Nouryonの登録商標です。
Inertsil™は、ジーエルサイエンス株式会社の商標です。
Symmetry®は、Waters Corporationの登録商標です。
低分子化合物の精製プロセスにおいて、負荷量はプロセスの経済性を左右する重要な要素です。一方で、目的物と不純物を確実に分離し、必要な純度を得るためには、分離能も重要です。下図では、各種ODS製品について、負荷量と分離能の関係を示しています。理想的には、高い負荷量を維持しながら、分離能を犠牲にしないシリカゲルが求められます。SP-100-10-ODS-Pは、高負荷量と高分離能のバランスに優れたグレードです。
負荷量と分離能の相関
ODS-Pグレードは、ベアシリカの高純度性に加え、高度に制御された残存シラノールを特長としています。固定相由来の溶出物が少なく、SP-100-10-ODS-Pを充填したカラムでは優れたピーク形状が得られるため、近接して溶出する不純物の分離にも有効です。
SP-100-10-ODS-Pは、低分子原薬の効率的な精製に適した有力なグレードです。
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