分離における修飾密度の役割
バルクシリカをご検討中のお客様から、初回の打ち合わせで「ODS/C18はありますか?」というご質問をよくいただきます。
もちろんDAISOGELではODS/C18をラインナップしていますが、固定相選定においては、単にODS/C18だけでなく、どのような修飾密度のODS/C18を選べるかが重要です。
修飾密度とは、シリカ表面に導入されたリガンド量を示す指標です。これは粒子外表面だけでなく、細孔内部のシリカ表面に導入されたリガンドも含みます。シリカ表面がどの程度修飾されているかは、この総修飾密度によって特徴づけられます。
ただし、修飾密度は高ければよいというものではありません。最適な修飾密度は、分離対象や精製条件によって異なります。DAISOGELでは、修飾密度の異なるODS製品をラインナップしており、精製プロセス開発における選択肢を広げます。
例えば、ODSのリガンド導入量を比較的少なく設計すると、低修飾密度のODS製品となります。このタイプは疎水性が低く、保持時間が短い一方で、pH適用範囲は限定的です。
一方、高修飾密度のODS製品は炭素含有率が高く、より広いpH適用範囲と長い保持時間を示します。目的分子を溶液中に保持するために、強い酸性またはアルカリ性条件が必要となる場合に有効な選択肢です。
DAISOGEL ODSのリガンド密度と特性
製品名
炭素含有率(C%)
pH適用範囲
疎水性
特徴
保持
SP-120-x-ODS-BP
Low 15%
1.5 – 9.0
Low
aqueous: 100% water compatible

SP-120-x-ODS-RPS
Average 17%
1.5 – 9.5
Middle
universal: wide application range

SP-120-x-ODS-BIO
High 20%
1.0 – 10.5
High
durable: wide
pH range

実際には、同じC18修飾であっても、修飾密度によって、クロマトグラフィー用途における挙動は大きく異なります。低、中、高修飾密度のODSを使用した場合の分離の違いを以下に示します。
田中試験

修飾密度が分離選択性に与える影響
製品名
修飾密度
k2/k3
(水素結合性)
k6/k4
(疎水性)
k7/k5
(立体選択性)
SP-120-5-ODS-BP
Low
0.62
1.48
1.24
SP-120-5-ODS-RPS
Average
0.53
1.48
1.37
SP-120-5-ODS-BIO
High
0.45
1.47
1.49
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ODSの選定でお困りの場合は、お気軽にご相談ください。
分離対象や精製条件に応じて、最適な修飾密度を有するODS製品をご提案します。